近日，国科天骥新材料有限责任公司光刻胶滨州生产园区交付暨试生产仪式在滨州经济技术开发区举行。项目投产后将主要用于芯片核心材料——高档光刻胶的研发生产，标志着我国在光刻胶领域突破国外技术封锁、解决“卡脖子”问题，为实现完全自主产权迈出了坚实一步。这也是滨州市持续深化“政产学研金服用”创新机制，促进科学家、金融家、实业家握指成拳、深度合作的具体实践和重大成果。

国科天骥（滨州）新材料有限责任公司依托中国科学院化学研究所和理化技术研究所的顶尖材料、化学专家团队，致力于打造新材料、新技术的创新孵化平台。光刻是大规模集成电路和超大规模集成电路制备过程中最重要的工艺过程之一，而作为光刻工艺中使用的核心材料，超高精细光刻胶也成为了半导体工业中最关键的材料之一，是制约我国半导体工业健康发展的“卡脖子”材料。面对我国对光刻胶快速增长的需求，国产高档半导体光刻胶还处于空白状况。国科天骥（滨州）新材料有限责任公司的“超高精细光刻胶项目”将可以填补上述国内空白。半导体光刻胶具有广阔的经济前景。目前，国内外光刻胶市场日益增长。预计到2022年全球光刻胶市场规模将突破100亿美元。而随着微电子制造业精细度不断提升，高档光刻胶的占比也将不断增大。国科天骥的“超高精细光刻胶项目”将为保障国家核心技术产业的战略安全贡献力量，同时也带来显著的社会效益和经济效益，将有利于光刻胶上下游产业的发展，吸引更多高精尖、高技术企业来滨州投资。

超高精细光刻胶项目是国家科技重大专项（02专项）成果的产业转化项目，由中国科学院大学副校长杨国强带领的研发团队承担，2018年5月，该项目通过了国家科技重大专项 (02专项)实施管理办公室组织的验收。今年1月19日，中国科学技术协会在“科创中国”年度工作会议上发布了2020年度“科创中国”系列榜单，中国科学院化学研究所研发的极紫外光刻胶成功入选2020年“科创中国”先导技术榜单（先进材料领域）。该技术具有完全自主知识产权，突破了国外知识产权壁垒，相比于传统聚合物主体材料的光刻胶更具优势和潜力，填补了国内技术空白，标志着我国在高端光刻胶领域已跻身世界先进行列，为国内半导体产业安全、国家经济安全和信息安全提供有力保障。